水平晶體定向儀

簡要描述：下一代垂直Laue晶體定向系統
有三種配置可供選擇——垂直、水平和顆粒圖——光子科學背反射Laue系統允許實時晶體定向，精度低至0.1度。
單晶的電光特性強烈依賴于晶體取向。Laue工具從單晶中收集高分辨率的X射線衍射圖案，從而能夠以優異的精度選擇正確的晶面。

產品型號： LAUESYS

所屬分類：晶體定向儀

更新時間：2024-12-17

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從非線性光學到噴氣發動機渦輪葉片和超導材料，單晶材料在新型器件中發揮著重要作用。高分辨率晶體定向系統是捕獲和分析各種晶體材料的Laue衍射圖案的理想工具。

使用專用軟件，可以快速準確地測量單晶的取向

該系統在樣品上提供小于0.3mm的強X射線束。單晶的電光特性強烈依賴于晶體取向。

LAUE工具從單晶中收集高分辨率的X射線衍射圖，從中可以非常準確地選擇正確的晶面切割。

主要功能

有垂直、水平和顆粒貼圖配置

即插即用緊湊型機柜系統-無需定制工作臺或額外服務

全自動和電動XYZ平臺和測角儀，可提供手動選項

CCD背反射、高分辨率、高靈敏度x射線探測器

專有聚焦光學器件，提供較小的準直光束尺寸

使用機載高分辨率觀察相機快速精確地對準小晶體

用于精確和可重復樣品定位的距離測量工具

專門的Laue軟件用于全面控制、數據采集、處理和分析

高通量樣品篩選選項

垂直Laue配置

垂直Laue系統是最靈活的配置，它使用垂直光束路徑對隔離的多個晶體或多個感興趣的區域進行高通量掃描。使用重力，樣品不需要粘附在平臺上，從而更容易安裝和定向晶體。光束尺寸小于200µm時，可容納亞毫米范圍的樣品和渦輪合金等較大部件。

水平Laue配置

Laue系統也可采用傳統的水平幾何形狀。水平Laue系統非常適合定向晶體進行切割或快速掃描晶體以識別反射。

顆粒圖配置

一種垂直系統，具有特殊的相機、鏡頭、照明和繪圖軟件，用于測量每個顆粒的方向。Grain Map包括一個全電動XYZ載物臺和角度計作為標準，非常適合于硅片的晶粒映射。